GV10x安装在灰化器上，通过等离子灰化处理，EM腔体的污染能得到明显改善。通过温和的氧离子灰化处理可对样品和TEM电镜杆表面进行很好的清洗且不对样品产生损伤，详细介绍参考文献： Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.
等离子清洗机通过加速离子从而达到溅射或者刻蚀样品，而GV/GA中使用氧原子或氢原子通过化学反应消除碳氢化合物。整个过程中并没有热量或者离子轰击产生。氧气将碳氢化合物转化为CO2 CO 或 H2O分子从而通过真空泵抽走。因此，整个处理过程能有效消除碳氢化合物而绝不会损坏样品。
建议使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。
Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source
工作环境： - 2 Torr to <5 mTorr (measured at the Source)
o 在较高的真空度下（大于50 毫托），清洗气体的平均自由程很短，允许在靠近等离子源的区域去除污染。
o 在较低的真空度下（小于50 毫托），清洗气体的平均自由程比较长，能均匀高效的清除碳污染。
o 整个清洗反应过程发生在分子泵运行的状态下，无需关闭抽真空系统。
