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x射线氮化硅窗口

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氮化硅薄膜窗

氮化硅薄膜窗是X-射线显微实验必备用品

氮化硅薄膜窗口


随着各种软X射线光源的出现,如同步辐射、激光等离子体等高亮度的X射线源的发展,软X射线显微成像技术在全世界范围内得到迅速发展。在此领域,需要应用各种尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。

1.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成;
2.  RISUN提供的氮化硅窗选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜,和ST氮化硅薄膜相比,低应力产品更坚固耐用,成为用户的首选;
3.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域,例如,X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。

透光度
使用透射(光学)显微镜时,完全可以透过薄膜窗进行观察。但薄膜窗的厚度有一定限制,否则其透光度会明显下降。对于X射线用窗口,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,对于软X射线(例如碳边吸收谱),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。



               



           



 


  

真空适用性

薄膜厚度 窗口面积 压力差
≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm
≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm
≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm
 
 表面平整度
    RISUN氮化硅薄膜窗口具有稳定的表面平整性(粗糙度小于1nm),对于X射线应用没有任何影响。

温度特性
    RISUN氮化硅薄膜窗口是耐高温产品,能够承受1000℃高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性
    RISUN氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

RISUN氮化硅薄膜窗规格


单窗口系列

薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 型号
50-500nm 1.5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN
50-500nm 2.5X2.5mm 7.5X7.5mm
50-500nm 3.0X3.0mm 10X10mm
50-500nm 5.0X5.0mm 10X10mm
硅片厚度:200um、381um、525um;  


阵列系列

薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 型号
50-300nm 2x2阵列,1.5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN
50-300nm 3x3阵列,1.5X1.5mm 7.5X7.5mm
50-300nm 4x4阵列,1.5X1.5mm 10X10mm
硅片厚度:200um、381um、525um;                                      

定制系列
 RISUN也可以根据用户需求提供不同膜厚、镀层(如:Au)的定制服务,50-100片起订。
本产品为一次性产品,不建议用户重复使用;本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。





1. 同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。
2. 耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)。
3. 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。
4. 耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
5. 适合作为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

氮化硅膜可用作软X射线接触显微术的衬底支持膜,成像后直接进行透射电镜观察;
可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层;可以成为制作各种光学波带片的衬底薄膜;
可以作为投影显微术靶的支持膜;可以用作真空窗口,在同步辐射软X射线显微术中,隔开光源超高真空与显微术光学元件高真空部分;
在活样品室设计中,隔开高真空的软X射线部分与大气压,使样品在大气中曝光,这对于研究生物活细胞具有重大意义。

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