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GV10X

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原位电镜等离子清洗机

GV10x去除碳和碳氢污染的效率是传统方法的10-20倍,排除了SEM图像的干扰和成像中的黑色扫描框,保持SEM成像的高分辨率和稳定性;排除聚焦离子束(FIB)和透射电子显微镜(TEM)中的碳干扰。

全新的典范: 原位等离子清洗系统GV10X
 

    GV10x 是由美国ibss Group公司与具有独特专利的等离子源发明者共同合作开发并生产的新一代原位等离子技术清洗系统。GV10x可以在分子泵运行的真空状态下工作,GV10x去除碳和碳氢污染的效率是传统方法的10-20倍,且具有价格优势。排除了SEM图像的干扰和成像中的黑色扫描框,保持SEM成像的高分辨率和稳定性;排除聚焦离子束(FIB)和透射电子显微镜(TEM)中的碳干扰。

亮点:
功率:5 -99 W 连续可调等离子功率


工作环境:- 2 Torr to <5 mTorr (等离子源处真空度)
在较高的真空度下(大于50 毫托),清洗气体的平均自由程很短,允许在靠近等离子源的区域去除污染。
在较低的真空度下(小于50 毫托),清洗气体的平均自由程比较长,能均匀高效的清除碳污染。
整个清洗反应过程发生在分子泵运行的状态下,无需关闭抽真空系统。


柔和:使用中性氧或氢的自由基通过非动力学过程灰化气相碳氢化合物和表面碳。



  
    Ibss group公司引进Gentle Asher 腔体拓展了GV10x的应用,用以清洁放入电子显微镜腔体前的样品。连接了GV10x的Gentle Asher™腔体 GA/GV 可以极大地防止黑色扫描方框的生成。在将电镜腔清洁到可接受的碳氢污染水平后,可以使用顺流工艺,通过简单地将GV10x源移动到Gentle Asher腔中,达到样品清洁和储存的目的。客户的报告声称这种有效的结合以更少的损伤巧妙地去除TEM样品台和任何类型样品的污染,同时保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳氢污染水平的易控制性。预清洁样品和样品台避免了污染电镜腔体,这样就延长了电镜清洗的周期。


         

功率:5 -99 W 连续可调等离子功率

工作环境: - 2 Torr to <5 mTorr (measured at the Source)
o 在较高的真空度下(大于50 毫托),清洗气体的平均自由程很短,允许在靠近等离子源的区域去除污染。
o 在较低的真空度下(小于50 毫托),清洗气体的平均自由程比较长,能均匀高效的清除碳污染。
o 整个清洗反应过程发生在分子泵运行的状态下,无需关闭抽真空系统。

柔和:使用中性氧或氢的自由基通过非动力学过程灰化气相碳氢化合物和表面碳。

气源:使用中性氧或氢的自由基通过非动力学过程灰化气相碳氢化合物和表面碳。

控制系统:手动,PC控制,皮拉尼真空计
          时间:0~999分钟,精度:秒
          实时显示设置值和实际参数

软件:基于WINDOWS XP系统可与电镜操作软件对接,编入电镜操作软件。



 




 
    GV10x 顺流等离子清洗系统去除碳氢污染的能力是一个巨大突破,超越了使用冷却捕捉、氮气吹尘等缓和污染的传统方法和其它等离子清洗机。GV10x,以其扩展的功率和压力范围(5 至 100 瓦 和2 至 <0.005 托) 代表了SEMs和其他真空系统中除碳的经典转移。

    原子氧和氢可以将表面碳转换成气相分子然后被泵出到腔体外,而不仅是被固定和捕获在表面,从而消除污染。SEM腔中低的碳含量使样品假象比如聚合物沉积得到最小化。




    

 
    
              Negative [or positive] charging scan squares & charging artifacts cause critical measurement and observational errors removed and prevented - Courtesy of Infineon on LEO 1550

 
    由于各个仪器的清洁周期不同,可以通过在不同的仪器之间更换GV10x 源将GV10x 应用在几个实验室工具上。 在GV10x源和仪器真空腔之间放置一个隔离阀,如S-4700 FESEM所示,就可以非常简易的重新安置GV10x。


 

    随着纳米科学的进步,电子束聚焦的更好、电子束能量降低、前驱气体的使用增加,使得高分辨率日益依赖于将碳污染控制在较低水平。通过远程或顺流等离子工艺消除污染和去污染能够迅速、简便和有效地完成这样的任务。与普通的“等离子清洗机“中的动力学溅射、刻蚀清洁不一样, 顺流等离子工艺是一个柔和的化学刻蚀。这个工艺已经革新了在真空腔体中消除碳分子和碳氢化合物的方式。

   

GV10x DS Asher以较高的原子氧和氢浓度和更少的时间就可以达到同样精妙的去除污染的效果,因此只需很短的时间就可以得到全新清洁的腔体,非常适合大尺寸的腔体和重度污染的表面。客户声称,使用GV10x可以使整个大型腔体的碳氢水平得到更加有效和均匀的控制,而只需要现存方法的十分之一的时间,同时具有更加好的均匀性。








 
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